14 відділ

  • Комплекс установок для синтезу алмазу, спікання алмазних нанопорошків і композитів на їх основі, до його складу входять: пресова установка АС 1000 зусиллям до 10 МН (1000 тс), яка забезпечує роботу апаратів високого тиску, і модернізована вакуумна піч СНВЛ для проведення дегазації нанопорошків за рахунок створення вакууму до 10-2 па і температури до 800 °С;
  • Стенд для нанесення металевих плівок методом магнетронного розпилення (на базі вакуумного поста ВУП -5М);
  • Стенд на базі електрометрів “Agilent 4339b” (США), В749 (Франція) і нановольтметра NV 724 (Франція) для виміру електропровідності і діелектричної проникності порошків алмазу і кубічного нітриду бору, а також поликристалів і композитів на їх основі в широкому інтервалі температур і напруги;
  • Комплекс приладів і установок для визначення коефіцієнта теплопровідності матеріалів в інтервалі температур 300К-800 К і питомій теплоємності матеріалів в інтервалі температур 300К-1000К;
  • Установка для досліджень фізико-хімічних процесів в НТМ при зміні температурного режиму (на базі дериватографа фірми “Setaram”);
  • Комплекс рентгенівських дифрактометрів ДРОН-3М, ДРОН-4; ДРОН-2

Лабораторія 14/1

  • Вакуумний комплекс з вивчення капілярних явищ, змочування і адгезії;
  • Комплекс установок для дослідження фізико-хімічних властивостей порошків НТМ (питома поверхня, щільність, ζ-потенціал);
  • Установка для термохімічних досліджень порошків НТМ;
  • Комплекс приладів для діагностики і аналітичних досліджень морфометричних характеристик порошків НТМ;
  • Стенд для дослідження абразивних властивостей порошків і паст із НТМ; Дослідницька ділянка отримання наноматеріалів в рідких середовищах різної природи;
  • Установки для фізико-хімічного синтезу НТМ при атмосферному тиску;
  • Установки для виготовлення паст і суспензій

Лабораторія 14/2

  • Комплекс приладів для досліджень методами растрової електронної мікроскопії, рентгеноспектрального аналізу і структурних досліджень з використанням дифракції відбитих електронів;
  • Комплекс приладів для досліджень методами оптичної і ІЧ-Фур”є спектроскопії;
  • Комплекс установок для отримання технологічних і захисних покриттів на основі вуглецю